0
конструктор ухода
Cica Soothing Mask
Cell Fusion C
850,00
р.
Маска моментально успокаивает кожу, способствует заживлению повреждений, оказывает антибактериальное и противовоспалительное действие.
Интенсивно увлажняет и восстанавливает кожу. Уменьшает выраженность расширенных пор, нормализует жирность кожи.
Рекомендовано для всех типов кожи.
Интенсивно увлажняет и восстанавливает кожу. Уменьшает выраженность расширенных пор, нормализует жирность кожи.
Рекомендовано для всех типов кожи.
Основа маски - нановолокно ТЕМСЕЕ®, которое изготовлено из 100% натуральных волокон древесины эвкалипта по уникальной технологии. Продукт безопасен в использовании для чувствительной и поврежденной кожи.
Экстракт Хауттюйнни оказывает выраженное заживляющее, противовоспалительное и антимикробное действие, уменьшает очаги воспаления, укрепляет иммунитет кожи, делает ее менее чувствительной и реактивной.
Экстракт Королевской вишни оказывает осветляющее и увлажняющее действие, устраняет стянутость и сухость кожи, выравнивает рельеф и является источником флаваноидов.
Экстракт ЮДЗУ, благодаря высокому содержанию витамина С ,оказывает мощное антиоксидантное действие.
Экстракт Хауттюйнни оказывает выраженное заживляющее, противовоспалительное и антимикробное действие, уменьшает очаги воспаления, укрепляет иммунитет кожи, делает ее менее чувствительной и реактивной.
Экстракт Королевской вишни оказывает осветляющее и увлажняющее действие, устраняет стянутость и сухость кожи, выравнивает рельеф и является источником флаваноидов.
Экстракт ЮДЗУ, благодаря высокому содержанию витамина С ,оказывает мощное антиоксидантное действие.
Cell Fusion C Expert - профессиональная космецевтическая линия интенсивного воздействия, направленная на нормализацию метаболических процессов в клетках кожи, которая была создана в 2001 году при участии биологов, дерматологов, биохимиков и пластических хирургов Южной Кореи. В основу разработок положены инновации в области активных ингредиентов и трансдермальной доставки инкапсулированных биологически активных веществ.
Основа линейки - запатентованная технология с использованием клеточно-мембранных структур - NEO-CMS™.
- блокирует действие внешних факторов (аллергены, патогены и т.д.),
- послойно достраивает эпидермальные липиды
- активирует самоочищение, снижает активность противоспалительних ферментов и повышает антиоксидантный статус кожи
Основа линейки - запатентованная технология с использованием клеточно-мембранных структур - NEO-CMS™.
- блокирует действие внешних факторов (аллергены, патогены и т.д.),
- послойно достраивает эпидермальные липиды
- активирует самоочищение, снижает активность противоспалительних ферментов и повышает антиоксидантный статус кожи
Очистите и освежите кожу с помощью тоника. Достаньте маску из пакета-саше и положите ее на лицо, выровняв и разгладив края, чтобы она плотно прилегала к коже. Оставьте на 15-20 минут. Снимите маску и «втирающими» движениями впитайте оставшиеся ингредиенты маски в кожу.
Для достижения наилучшего эффекта используйте маску охлажденной (до 10°С). До или после нанесения маски используйте сыворотку Cell Fusion Cica Soothing Ampoule.
Для достижения наилучшего эффекта используйте маску охлажденной (до 10°С). До или после нанесения маски используйте сыворотку Cell Fusion Cica Soothing Ampoule.
Экстракт Центеллы Азиатской, масло чайного дерева, экстракт Гамамелиса, экстракт Агавы, бета-глюкан, гиалуронат натрия, аллантоин.
Подраздел: Маски
Тип кожи: Сухая
Тип кожи: Нормальная
Тип кожи: Комбинированная
Тип кожи: Жирная
Проблема: Нарушенный гилролипидный барьер
Проблема: Сухость
Проблема: Раздражённая кожа
Проблема: Чувствительность
Проблема: Акне
Проблема: Жирный блеск
Проблема: Расширенные поры
lwh: 200x45x45
Weight: 230g
только
оригинальные товары
оригинальные товары
доставляем
по России и миру
по России и миру
высылаем
семплеры и пробники
семплеры и пробники
«Facebook/Instagram — проект Meta Platforms Inc., деятельность которой в России запрещена».
Каталог
покупателям
контакты
nanoshu@gmail.com
ИП Кузьменок В. А.
ИНН 366412085787
ИНН 366412085787
политика сбора данных
nanoshu — 2023©
nanoshu — 2023©
